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在半导体制造等领域,光阻是一个常被提及却让很多人感到陌生的专业术语。简单来说,光阻是一种对光敏感的混合液体,也被称作光刻胶。它在光刻工艺中至关重要,能够通过光化学反应,将掩膜版上的图形精确转移到半导体晶圆等基底上。随着半导体技术不断发展,对光阻性能的要求也日益严苛,其重要性愈发凸显。下面让我们深入了解光阻的奥秘。
1、光阻,亦称为光阻剂,是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。
2、光阻有两种,正向光阻(positivephotoresist)和负向光阻(negativephotoresist)。
3、正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。
4、负向光阻是光阻的一种,其照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。
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