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在半导体和微电子领域,光阻是一个关键概念。光阻,也被称作光刻胶,是一种对光敏感的混合液体。它在光刻工艺中起着至关重要的作用。当受到特定波长光线照射时,光阻的化学性质会发生变化。这种特性使得它能在硅片等基底上精确复制掩膜版图案,进而制造出集成电路等微小电子元件,在现代电子产业发展中意义重大。
1、光阻,亦称为光阻剂,是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。
2、光阻有两种,正向光阻(positivephotoresist)和负向光阻(negativephotoresist)。
3、正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。
4、负向光阻是光阻的一种,其照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。
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