在半导体制造领域，曝光机一直是关键设备。近日，行业巨头ASML推出了次世代曝光机，引发广泛关注。这部曝光机每部售价高达3.8亿美元，较之上一代产品价格贵了一倍。如此高昂的价格背后，是其蕴含的先进技术与卓越性能。随着半导体工艺不断向更小制程迈进，对曝光机的精度、效率等要求也越来越高。ASML这款次世代曝光机有望满足行业未来发展的需求，推动芯片制造技术迈向新高度。它的推出也将影响整个半导体产业链的格局，众多芯片制造商是否会选择采用值得期待。

在芯片制造过程之中，曝光机是相当重要的存在，荷兰ASML就是这方面的龙头企业，最近正式公开High-NA EUV微影曝光设备，进一步提升芯片生产技术。

ASML先前终于向外界公开其次世代TWINSCAN EXE:5000曝光机（光刻机），采用新一代的High-NA EUV微影曝光技术，重量达到165吨，造价3.8亿美元，是上代Low-NA EUV曝光机差不多2倍价钱。ASML表示，新一代曝光机可以打印8纳米的图案，比上代密度提升1.7倍，每小时可生产185个芯片。

这样庞大的机器需要由250名工程师在实地组装，而且需要6个月。去年Intel已经购买一部TWINSCAN EXE:5000，不过在2025年之前都不会用于生产。而台积电方面仍然未有计划升级曝光机，可能正在等待更先进的产品推出才一次过投资，也就是Hyper NA技术，预计在2030年左右推出。

来源：Extreme Tech